[发明专利]一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置有效
申请号: | 201911057743.1 | 申请日: | 2019-11-01 |
公开(公告)号: | CN110777360B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 冯涛;童明德;姚朔天;温世峰;林红娇 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/32 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 云燕春 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置,属于化学气相沉积技术领域;包括步进电机、传动组件、储料罐、球阀、金属真空管和化学气相沉积炉;传动组件同轴安装于储料罐内,其传动杆底端从端头处沿轴向依次固定安装有金属细针、金属螺纹塞和旋转叶片,其顶端穿过所述法兰盘的圆通孔与所述步进电机的转子同轴固定,通过所述步进电机带动所述传动组件旋转,所述传动杆与所述法兰盘之间为动密封结构;所述步进电机通过螺纹柱固定于所述法兰盘的上表面;采用动密封结构实现传动杆与法兰盘之间的密封,将法兰盘上方步进电机及螺纹柱隔绝在真空系统外,防止步进电机过热及防止步进电机被粉体腐蚀,且其方便安装、调试及拆卸。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 状态 粉末 前驱 进料 装置 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积负压状态下粉末前驱体的进料装置,其特征在于:包括步进电机、传动组件、储料罐、第一球阀、第二球阀、第三球阀、金属真空管和化学气相沉积炉;/n所述储料罐包括玻璃罩和锥形漏斗,所述玻璃罩为两端开口的筒状结构,其上端口通过法兰盘密封安装,所述法兰盘中心处开有圆通孔,用于穿过所述传动组件;所述玻璃罩的下端口与所述锥形漏斗的大径端同轴密封安装,所述锥形漏斗的小径端与所述第一球阀的一端连接;所述玻璃罩侧壁上开有通孔,用于同轴固定玻璃细管,所述金属真空管一端通过橡胶塞与所述玻璃细管出口密封连接,使得所述金属真空管与所述玻璃罩内相通;所述金属真空管的另一端与所述化学气相沉积炉炉体通过所述第三球阀连接;所述化学气相沉积炉设置于整个装置的底端,其顶端进料口与所述第一球阀的另一端连接,所述第一球阀的侧壁通过所述第二球阀与沉积进气管连接;/n所述传动组件同轴安装于所述储料罐内,包括传动杆、旋转叶片、金属螺纹塞和金属细针;所述传动杆底端从端头处沿轴向依次固定安装有金属细针、金属螺纹塞和旋转叶片,其顶端穿过所述法兰盘的圆通孔与所述步进电机的转子同轴固定,通过所述步进电机带动所述传动组件旋转,所述传动杆与所述法兰盘之间为动密封结构;所述步进电机通过螺纹柱固定于所述法兰盘的上表面;/n所述金属螺纹塞为锥形结构,其锥角与所述锥形漏斗的锥角相同,能够通过真空压力保证所述金属螺纹塞与所述锥形漏斗小径端的内壁压紧贴合,使得前驱体粉料通过金属螺纹塞的螺纹凹槽向下输送;所述旋转叶片为梯形片状结构,两个所述旋转叶片对称固定于所述传动杆下部的两侧,用于搅拌粉料。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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