[发明专利]偏压控制方法及装置、半导体加工设备有效
| 申请号： | 201911059873.9 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110752137B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 卫晶;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种偏压控制方法及装置、半导体加工设备，该方法包括：实时采集下电极上的射频偏压的模拟信号；将射频偏压的模拟信号转换为数字信号；对数字信号进行处理，以获得射频偏压的幅值检测值和相位检测值；将幅值检测值和相位检测值分别与预设的幅值设定值和相位设定值进行比较，并根据各自的比较结果分别控制与所述下电极电连接的偏压电源的功率输出值和相位输出值，本发明提供的偏压控制方法及装置、半导体加工设备的技术方案，既可以提高控制偏压电源输出功率大小的精确性，又可以更精确地控制晶片上方的离子能量，从而可以进一步保证工艺结果一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 偏压 控制 方法 装置 半导体 加工 设备 | ||
【主权项】：
1.一种偏压控制方法，其特征在于，包括：/n实时采集下电极上的射频偏压的模拟信号；/n将所述射频偏压的模拟信号转换为数字信号；/n对所述数字信号进行处理，以获得所述射频偏压的幅值检测值和相位检测值；/n将所述幅值检测值和相位检测值分别与预设的幅值设定值和相位设定值进行比较，并根据各自的比较结果分别控制与所述下电极电连接的偏压电源的功率输出值和相位输出值。/n
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