[发明专利]一种基于并行探测的二维亚十纳米定位方法及装置在审
| 申请号： | 201911060115.9 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110907414A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;李传康;李雨竹;刘旭 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 米志鹏 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于并行探测的二维亚十纳米定位方法，使用一束空心斑激发，另一束空心斑荧光淬灭，获得超越衍射极限的暗斑模型，再基于探测器阵列对空间不同位置点进行荧光光子数采样计数，根据统计分布规律以及极大似然概率估计的数学模型精确测量高浓度染料条件下的荧光分子定位。本发明较之传统方法可以缩小定位范围，将染料分子浓度提高一个数量级，并且基于并行差分探测的原理，可以仅一次照明实现对单分子的定位，大大提高了定位速度，从而更满足生物医学研究领域的实际需要。同时，本发明还公开一种一种基于并行探测的二维亚十纳米定位装置。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 并行 探测 二维 纳米 定位 方法 装置 | ||
【主权项】：
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