[发明专利]一种散射测量装置及散射测量方法有效
申请号: | 201911061676.0 | 申请日: | 2019-11-01 |
公开(公告)号: | CN112764317B | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 周钰颖;王帆 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种散射测量装置及散射测量方法。其中散射测量装置包括光源模块、光束传输模块、镜头、焦面测量模块及角谱测量模块;光源模块用于提供照明光束;光束传输模块用于将照明光束传输至镜头,接收待测物体返回并经镜头透射后的信号光束并分束形成焦面偏离信号光束和角谱信号光束;焦面测量模块用于接收焦面偏离信号光束,并计算待测物体与镜头的焦面的偏离程度;角谱测量模块用于接收角谱信号光束,并计算待测物体的关键尺寸或套刻误差。本发明实施例的技术方案,可同时测量待测物体与镜头的焦面的偏离程度和角谱,进而测量待测物体的关键尺寸或套刻误差,并且无需使用不同波长,有助于调焦应对不同工艺。 | ||
搜索关键词: | 一种 散射 测量 装置 测量方法 | ||
【主权项】:
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