[发明专利]一种以多孔离子聚合物为分散相的混合基质膜的制备方法及其气体分离的应用有效
| 申请号： | 201911064044.X | 申请日： | 2019-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN110756059B | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 胡军;王臣辉;王艺蒙;潘冯弘康;刘洪来 | 申请（专利权）人： | 华东理工大学 |
| 主分类号： | B01D71/44 | 分类号： | B01D71/44;C08G61/02;B01D69/14;B01D67/00;B01D53/22 |
| 代理公司： | 上海顺华专利代理有限责任公司 31203 | 代理人： | 李鸿儒 |
| 地址： | 200237 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种以多孔离子聚合物为分散相的混合基质膜的制备方法，包括以下步骤：将多孔离子聚合物球磨为纳米颗粒，作为分散相添加至聚合物基质膜材料中，多孔离子聚合物在混合基质膜中的质量分数为5‑20％，超声消泡，涂覆在基底上，静置，蒸发溶剂，得到混合基质膜；所述多孔离子聚合物的结构如下： |
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| 搜索关键词： | 一种 多孔 离子 聚合物 分散相 混合 基质 制备 方法 及其 气体 分离 应用 | ||
【主权项】：
1.一种以多孔离子聚合物为分散相的混合基质膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将多孔离子聚合物球磨为100-200nm的纳米颗粒，作为分散相添加至聚合物基质膜材料中，多孔离子聚合物在混合基质膜中的质量分数为5-20％，超声消泡，涂覆在基底上，静置，蒸发溶剂，得到混合基质膜；/n所述多孔离子聚合物的结构如下：/n
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