[发明专利]一种氮化硼封装的二维有机-无机异质结及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911071005.2 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN110676384A 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 卞正;高丽;王欣然;疏静 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56;H01L51/40
代理公司: 32360 南京泰普专利代理事务所(普通合伙) 代理人: 张磊
地址: 210094 江苏省南*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种氮化硼封装的二维有机‑无机异质结及其制备方法,属于二维半导体材料领域。其制备方法包括如下步骤:将氮化硼转移到硅片衬底,并在底层氮化硼上外延生长出有机薄膜;用细针带起金电极和顶层氮化硼,放置在待转移的二维无机材料上;然后用细针带起金电极、顶层氮化硼及二维无机材料,并置于有机薄膜的底层氮化硼上,最后将封装后的异质结置于真空装置中,使二维有机材料和/或二维无机材料紧密贴合。本发明通过采用氮化硼代替传统玻璃薄膜作为封装层,不仅能够起到很好的封装作用,能隔绝外界水氧对二维材料的影响,而且能够增加电子迁移率;而且,以带洞的金电极做支撑层,即方便后期去除,又可以实现快速转移、精确对准。
搜索关键词: 氮化硼 二维 无机材料 金电极 封装 有机薄膜 异质结 顶层 细针 制备 电子迁移率 二维半导体 材料领域 传统玻璃 二维材料 紧密贴合 快速转移 外延生长 有机材料 真空装置 封装层 外界水 支撑层 硅片 衬底 去除 薄膜 对准
【主权项】:
1.一种氮化硼封装的二维有机-无机异质结,其特征在于,包括:/n衬底,其材质为硅片;/n底部封装层,其材质为二维氮化硼,设置在所述衬底上;/n二维纳米层,由至少两层的二维有机材料和/或二维无机材料形成的层状异质结结构,并设置在所述底部封装层上;/n顶部封装层,其材质为二维氮化硼,设置在所述二维纳米层的另一侧。/n
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