[发明专利]一种具有紫外光屏蔽、可见光增透性能的耐原子氧涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911073076.6 申请日: 2019-11-05
公开(公告)号: CN112760036A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 张宗波;王丹;徐彩虹 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: C09D183/16 分类号: C09D183/16;C09D7/61;C09D7/63;B05D7/24;B05D7/00
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 黄越;谢怡婷
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于材料技术领域,尤其涉及一种具有紫外光屏蔽、可见光增透性能的耐原子氧涂层及其制备方法。本发明提供的紫外光屏蔽、可见光增透的耐原子氧涂层包含紫外屏蔽层和表层的原子氧阻隔层,虽然是两层结构,但是都是基于聚硅氮烷制备的,可两次涂覆、一次固化;也可以是两次涂覆、两次固化。所述紫外屏蔽层是含钛或含锌或含铈的氧化硅,表现出良好的阻挡紫外线的性能。表层的原子氧阻隔层是含硅氧化物材质,硬度高、透明性好,可有效的保护基材免受原子氧的侵蚀。同时由于两层涂层结构折射率的匹配,表现出良好的可见光增透性能。
搜索关键词: 一种 具有 紫外光 屏蔽 可见光 性能 原子 涂层 及其 制备 方法
【主权项】:
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