[发明专利]一种基于黑体腔法向-半球反射分布比的发射率测量方法有效
| 申请号： | 201911075823.X | 申请日： | 2019-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN110686872B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 宋健;郝小鹏 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京华仁联合知识产权代理有限公司 11588 | 代理人： | 陈建 |
| 地址： | 100013 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提出通过测量待测黑体腔法向的反射数据，并通过仿真获得黑体腔法向‑半球反射特性比从而得到黑体半球全反射数据最终计算黑体腔0‑D条件下的发射率的测量方法。首先利用已知功率的激光光源沿法向中心位置照射黑体腔，使用测量装置测量黑体腔在法向条件下反射光源的功率；接着通过仿真计算建立已知结构的黑体腔的法向反射特性和半球反射特性的关系，得到黑体腔半球方向对光源的全反射数据；最终根据黑体半球方向反射的光源的功率和光源的出射功率获得黑体腔的发射率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 体腔 半球 反射 分布 发射 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于黑体腔法向-半球反射分布比的发射率测量方法，其包括：/n步骤1、提供一待测黑体腔，所述黑体腔具有朝向一侧的口部；/n步骤2、通过距离黑体腔的预定位置处的激光器，向所述黑体腔的开口，使用功率为P
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