[发明专利]银薄膜蚀刻液组合物、蚀刻方法及金属图案的形成方法有效

专利信息
申请号: 201911077331.4 申请日: 2019-11-06
公开(公告)号: CN111155092B 公开(公告)日: 2023-03-17
发明(设计)人: 权五柄;李恩远;赵现洙 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30;C23F1/02;C25F3/02;C25F3/14
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金成哲;宋海花
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供银薄膜蚀刻液组合物、利用上述银薄膜蚀刻液组合物的蚀刻方法及金属图案的形成方法,上述银薄膜蚀刻液组合物包含(A)硝酸、(B)选自由铁系化合物和过氧化物氧化剂组成的组中的一种以上、(C)磷酸以及(D)水,将上述蚀刻液组合物作为电解液而在用作有机发光显示器(OLED)的S/D(源极/漏极)电极的铝(Al)电极和钛(Ti)电极之间所测定的伽伐尼(Galvanic)电流值为40nA以下。本发明提供以下效果:即使包含磷酸作为氧化剂也不发生银(Ag)再吸附问题,同时对于由银或银合金构成的单层膜以及由上述单层膜和透明导电膜构成的多层膜具有优异的蚀刻特性。
搜索关键词: 薄膜 蚀刻 组合 方法 金属 图案 形成
【主权项】:
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