[发明专利]一种COF基板的曝光定位方法有效
| 申请号： | 201911080085.8 | 申请日： | 2019-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN110658698B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 戚爱康;计晓东;孙彬;沈洪;李晓华 | 申请（专利权）人： | 江苏上达电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H05K3/06 |
| 代理公司： | 徐州市三联专利事务所 32220 | 代理人： | 卓小彬 |
| 地址： | 221000 江苏省徐州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种COF基板的曝光定位方法，针对COF基板上定位孔实现精准定位，给出了MARK图案设计，所述MARK图案为曝光MARK，包括曝光对位MARK和焦点检出MARK；所述曝光对位MARK为圆环形状；所述焦点检出MARK为至少含有2个相间隔的同心圆环，其最内侧圆环设有十字标记，且所述焦点检出MARK位于曝光对位MARK的圆环内。本发明的制造方法中，MARK图案是以一个组合体，不是单一的，是一个功能组合。量产生产过程中，用MARK图案和定位孔完成对位，就可以曝光。曝光一定次数后（次数可以曝光机设定），使用焦点检出调整MARK图案。来确定焦点的位置是否合理。焦点过大过小投影的图像都会失真。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cof 曝光 定位 方法 | ||
【主权项】：
1.一种COF基板的曝光定位方法，首先COF基板（6）经过曝光机时，会被产品吸附工作台（5）吸附，此时掩模板（1）上的MARK图案会经过滤光镜头（3）投影在COF基板（6）的定位孔（7）上，定位孔（7）下方的产品吸附工作台（5）上安装有对位CCD相机（4），掩模板（1）上投影下来的MARK图案，会透过定位孔（7），被对位CCD相机（4）捕捉，实现MARK图案的校准，从而确定是否定位合格；其特征在于：/n所述MARK图案为曝光MARK（8），包括曝光对位MARK（8.1）和焦点检出MARK（8.2）；/n所述曝光对位MARK（8.1）为圆环形状；所述焦点检出MARK（8.2）为至少含有2个相间隔的同心圆环，其最内侧圆环设有十字标记，且所述焦点检出MARK（8.2）位于曝光对位MARK（8.1）的圆环内。/n
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