[发明专利]一种P重掺型硅片喷砂前预处理方法有效

专利信息
申请号: 201911081149.6 申请日: 2019-11-07
公开(公告)号: CN110957207B 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 王建华;贺贤汉;丁晓健;吴边 申请(专利权)人: 上海中欣晶圆半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02
代理公司: 上海申浩律师事务所 31280 代理人: 赵建敏
地址: 200444 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种P重掺型硅片喷砂前预处理方法,包括A混酸腐蚀:将P重掺型硅片置于含有HF以及HNO3的药液槽中,在40~50℃条件下进行酸性蚀刻40~80s,而后用去离子水清洗干净;B碱洗:将经过步骤A处理后的硅片安装在碱洗槽中的凸轮机构上,转速为60~80RPM;该碱洗槽中盛装有体积分数为5~10%的强碱溶液,清洗温度为40~60℃,清洗时间为3~9min。本发明通过在硅片背面喷砂处理前增加强碱洗步骤,在后面的喷砂处理工序中有效避免了印记残留的产生,通过实际生产验证,生产报废率降低至零。
搜索关键词: 一种 重掺型 硅片 喷砂 预处理 方法
【主权项】:
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