[发明专利]用于测量微电子元件分层金属化结构中机械应力的传感器有效

专利信息
申请号: 201911081720.4 申请日: 2019-11-07
公开(公告)号: CN111157152B 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: G·西布罗特;L·克尔朱卡 申请(专利权)人: IMEC非营利协会
主分类号: G01L1/18 分类号: G01L1/18;G01L5/162;H01L21/66
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 杨洁
地址: 比利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及一种用于测量诸如集成电路管芯的后道工艺部分的分层金属化结构中机械应力的传感器。该传感器用作包括栅电极(1)、栅极介电(5)、沟道(6)以及源极和漏极(7、8)的场效应晶体管,其中,栅电极是第一金属化层的导体(1),而源极和漏极电极是两个互连通孔(7、8),将沟道(6)连接至相邻层中的各个导体(3、4)。互连通孔中的至少一个通孔由其电阻对通孔方向上的机械应力敏感的材料形成。电阻对机械应力的敏感性足以通过读出晶体管的漏极电流来对应力进行测量。传感器因此允许在开裂发生前监测BEOL中的应力。
搜索关键词: 用于 测量 微电子 元件 分层 金属化 结构 机械 应力 传感器
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于IMEC非营利协会,未经IMEC非营利协会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911081720.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top