[发明专利]高分辨率硬X射线钨/金菲涅尔波带片及其制备方法有效
| 申请号： | 201911082896.1 | 申请日： | 2019-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN110970147B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 陈宜方;朱静远 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;陆尤 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于X射线成像技术领域，具体为一种高分辨率硬X射线钨/金菲涅尔波带片及其制备方法。本发明步骤包括：在氮化硅衬底上生长铬/金电镀种子层；在电镀种子层上生长金属钨；在衬底上旋涂PMMA正性光刻胶，烘烤固化；利用电子束光刻机进行曝光；进行显影，然后用IPA漂洗，获得光刻胶波带片结构；以光刻胶为掩膜，在上层进行纳米电镀金，得到上层金波带片；将上层金波带片放入反应离子刻蚀机中，以金波带片为掩模对金属钨进行刻蚀，将图形转移，得到钨/金菲涅尔波带片。该波带片具有大高宽比（大于20/1）的高分辨。本发明方法也可用于制备软X射线至硬X射线检测的菲尼尔波带片透镜；得到的纳米图形结构形貌可控；与现有半导体工艺相兼容。 | ||
| 搜索关键词： | 高分辨率 射线 金菲涅尔 波带片 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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