[发明专利]面向复杂曲面加工的三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置在审
| 申请号： | 201911085505.1 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN110757257A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 吕冰海;江亮;王佳焕;周亚峰;陈宇山;邵琦;袁巨龙 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学;西南交通大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B41/06;B24B41/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 33241 杭州斯可睿专利事务所有限公司 | 代理人： | 王利强 |
| 地址： | 310014 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种面向复杂曲面加工的三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置，包括工作电极模块、对电极模块、参比电极模块、电化学工作站、力流变抛光机、抛光液池和力流变抛光液，工作电极模块固定安装在力流变抛光机上，抛光工件作为工作电极与抛光液池内的力流变抛光液接触，与电化学工作站连接；对电极模块固定安装在力流变抛光机上，对电极与力流变抛光液接触，与电化学工作站相连；参比电极模块固定安装在力流变抛光机上，参比电极与力流变抛光液接触，与电化学工作站相连。本发明通过优化电化学反应和力流变机械力的协同作用，实现复杂曲面高表面完整性加工。同时，力流变抛光液是水基溶液，比热容大，可以有效抑制热的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 流变 抛光液 电化学工作站 抛光机 参比电极 工作电极 模块固定 对电极 复杂曲面加工 超精密抛光 电化学反应 三电极体系 复杂曲面 抛光工件 水基溶液 有效抑制 电化学 辅助力 高表面 机械力 可控 加工 优化 | ||
【主权项】：
1.一种面向复杂曲面加工的三电极体系可控电化学辅助力流变超精密抛光装置，其特征在于，所述装置包括工作电极模块、对电极模块、参比电极模块、电化学工作站、力流变抛光机、抛光液池和力流变抛光液；所述工作电极模块固定安装在力流变抛光机上，抛光工件作为工作电极与抛光液池内的力流变抛光液接触，通过导线与电化学工作站连接；所述对电极模块固定安装在力流变抛光机上，对电极与力流变抛光液接触，通过导线与电化学工作站相连；所述参比电极模块固定安装在力流变抛光机上，参比电极与力流变抛光液接触，通过导线与电化学工作站相连。/n
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