[发明专利]一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法在审
| 申请号： | 201911087067.2 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN110989061A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 张新彬;陈怀熹;李广伟;冯新凯;古克义;梁万国;黄玉宝 | 申请（专利权）人： | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人： | 校丽丽 |
| 地址： | 350002 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种全介质偏振无关全内反射光栅及其制作方法，属于反射光栅技术领域，能够解决现有反射光栅刻蚀深度较大，生产成品率较低的问题。所述反射光栅包括基底、平板波导层和光栅层。基底引导入射光进入平板波导层，并使出射光射出；平板波导层设置在基底上，调节偏振方向平行于光栅槽型的入射光的衍射效率；光栅层设置在平板波导层上，调节偏振方向垂直于光栅槽型的入射光的衍射效率。本发明可以使TE光和TM光在‑1级利特罗角入射条件下，理论上同时具有99％以上的衍射效率，在实际应用中同时具有95％以上的衍射效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介质 偏振 无关 反射光栅 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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