[发明专利]位移测量设备在审
| 申请号： | 201911089327.X | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN111175777A | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 山根规义;滨雄一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社基恩士 |
| 主分类号： | G01S17/48 | 分类号： | G01S17/48;G01S7/48;G01S7/481;G01S7/51 |
| 代理公司： | 北京格罗巴尔知识产权代理事务所(普通合伙) 11406 | 代理人： | 孙德崇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种位移测量设备。能够利用小型的位移测量设备来进行使用测量光的扫描。该位移测量设备包括用于使用从光投射透镜输出的测量光进行扫描的MEMS反射镜。光投射透镜在测量光的光轴上在MEMS反射镜处或该MEMS反射镜的附近具有使测量光聚光的焦点位置。在MEMS反射镜处被反射的测量光在该测量光接近测量区域时，以带状形式扩散。 | ||
| 搜索关键词： | 位移 测量 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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