[发明专利]分辨率辅助图形的筛选方法在审
| 申请号： | 201911091909.1 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN110673437A | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 熊丽娜;刘雪强 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/70 | 分类号： | G03F1/70;G03F1/38 |
| 代理公司： | 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种分辨率辅助图形的筛选方法，包括：基于规则的方式在测试版图上的主图形侧添加分辨率辅助图形，并将测试版图分成不同的批次；采集各批次的测试版图上的所述主图形的关键尺寸数据及所述分辨率辅助图形的特征尺寸数据；建立虚拟光学模型；调整虚拟光学模型的参数以使各批次测试版图上的主图形生成对应的光学强度分布图；根据所述光学强度分布图筛选出特征尺寸符合要求的所述分辨率辅助图形。其中，调整虚拟光学模型的参数使得主图形生成光学强度分布图，并通过分析所述光学强度分布图来筛选出合适的分辨率辅助图形，提高了采集并处理分辨率辅助图形的特征尺寸数据的效率，减小了筛选分辨率辅助图形的运算量，加快了工艺研发进度。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助图形 分辨率 强度分布图 主图形 测试版图 虚拟光学 筛选 特征尺寸数据 关键尺寸数据 采集 批次测试 运算量 减小 研发 进度 分析 | ||
【主权项】：
1.一种分辨率辅助图形的筛选方法，其特征在于，包括：/n提供掩膜版的多个测试版图，每个所述测试版图上形成有主图形；/n基于规则的方式在所述主图形侧添加分辨率辅助图形，并根据所述分辨率辅助图形的特征尺寸数据的不同将多个测试版图分成不同的批次；/n采集各批次的所述测试版图上的所述主图形的关键尺寸数据及所述分辨率辅助图形的特征尺寸数据；/n以所述主图形的关键尺寸数据及所述分辨率辅助图形的特征尺寸数据为基础建立适用于所述测试版图的虚拟光学模型；/n调整所述虚拟光学模型的光源参数或者光刻条件参数以使各批次所述测试版图上的所述主图形生成对应的光学强度分布图；/n根据所述光学强度分布图筛选合格批次的所述测试版图以筛选出特征尺寸符合要求的所述分辨率辅助图形。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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