[发明专利]一种中空内环磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 201911095461.0 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN110724918A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 黄志宏 | 申请（专利权）人： | 温州职业技术学院 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35 |
| 代理公司： | 33257 浙江纳祺律师事务所 | 代理人： | 应毓婷 |
| 地址： | 325036 浙江省温州市瓯海*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种中空内环磁控溅射阴极，包括呈中空设置的靶筒以及套设于靶筒外的水冷套管，所述水冷套管与靶筒之间设置有间隙，所述靶筒远离水冷套管的一侧为溅射表面，所述水冷套管的两端分别设置有第一磁环以及第二磁环，所述第一磁环与第二磁环的磁极相反且呈同轴设置；所述靶筒在溅射过程中受热膨胀会与水冷套管紧密贴合以实现换热。本发明具有以下有益效果：这种磁控溅射阴极可实现无需旋转工件，即可实现全方位镀膜。 | ||
| 搜索关键词： | 水冷套管 靶筒 磁环 磁控溅射阴极 磁极 溅射表面 紧密贴合 受热膨胀 同轴设置 旋转工件 中空设置 中空 镀膜 换热 溅射 内环 | ||
【主权项】：
1.一种中空内环磁控溅射阴极，其特征是：包括呈中空设置的靶筒(1)以及套设于靶筒(1)外的水冷套管(2)，所述水冷套管(2)与靶筒(1)之间设置有间隙，所述靶筒(1)远离水冷套管(2)的一侧为溅射表面(3)，所述水冷套管(2)的两端分别设置有第一磁环(4)以及第二磁环(5)，所述第一磁环(4)与第二磁环(5)的磁极相反且呈同轴设置；所述靶筒(1)在溅射过程中受热膨胀会与水冷套管(2)紧密贴合以实现换热。/n
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