[发明专利]一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置有效
| 申请号： | 201911096819.1 | 申请日： | 2019-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN110777344B | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 刁训刚;秦建平;刁诗如 | 申请（专利权）人： | 纳能镀膜丹阳有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京领科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11690 | 代理人： | 艾变开 |
| 地址： | 212300 江苏省镇*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置，包括主机、真空抽气装置、电源及控制系统和机柜，主机包括工作腔室、样品架、五个磁控靶和样品挡板，五个磁控靶倾斜地环绕在工作腔室顶部，实现共溅射或依次溅射；每个磁控靶配有一个靶挡板，靶挡板通过收缩开合临时遮挡对应磁控靶；样品架设置在磁控靶的下方，样品架顶部设有样品罩，样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件。样品挡板设在样品罩的上方。镀膜制备装置的磁控靶的设计充分利用了工作腔室内部的空间，能够实现共溅射或依次溅射镀膜。样品罩具有不少于100个样品通孔，能够单次同时制备上百个同样的样品，为材料基因组高通量镀膜提供可能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通量 磁控溅射 纳米 薄膜 器件 一体化 制备 装置 | ||
【主权项】：
1.一种高通量磁控溅射纳米薄膜器件一体化制备装置，包括主机、真空抽气装置、电源及控制系统和机柜，其特征在于，所述主机包括工作腔室、样品架、五个磁控靶和样品挡板，五个所述磁控靶倾斜地环绕在工作腔室的顶部，能够实现共溅射或依次溅射；每个磁控靶配有一个靶挡板，所述靶挡板通过收缩开合临时遮挡对应的磁控靶；所述样品架设置在磁控靶的下方，样品架顶部设有样品罩，所述样品罩具有多个样品通孔，用于高通量制备多组份混合纳米薄膜和纳米多层功能薄膜器件，所述样品挡板设在样品罩的上方。/n
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