[发明专利]气泡缺陷监控方法、装置、服务器及可读存储介质在审
申请号: | 201911099799.3 | 申请日: | 2019-11-12 |
公开(公告)号: | CN111081581A | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 詹冬武;潘玉妹 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479 | 代理人: | 陈敏 |
地址: | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种气泡缺陷监控方法、装置、服务器及可读存储介质,对键合晶圆的扫描图像进行灰度解析,获得气泡缺陷的像素灰度值,以通过像素灰度值对气泡缺陷进行监控。本发明可对气泡缺陷的尺寸大小、气泡缺陷的形状及气泡缺陷的数量进行在线自动监控,可避免人工目检的方式,检测效率高,准确率高,从而具有良好的可靠性,以降低气泡破开概率,降低经济损失,提高生产效率,具有较高的经济价值。 | ||
搜索关键词: | 气泡 缺陷 监控 方法 装置 服务器 可读 存储 介质 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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