[发明专利]一种光源装置以及投影显示装置在审
| 申请号： | 201911104921.1 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN110764357A | 公开（公告）日： | 2020-02-07 |
| 发明（设计）人： | 山影明广;梅雨非 | 申请（专利权）人： | 光显科技株式会社 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20 |
| 代理公司： | 11018 北京德琦知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨晶;王琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光源装置以及投影显示装置，该光源装置能够抑制由于荧光体的过度升温而导致的发光输出效率的降低，并且小型、功耗低、亮度高、且色纯度高。该光源装置具有：荧光体，设置于旋转体的表面；激发光源，具有二维排列的多个发光器件和与各发光器件对应设置的准直透镜，并输出用于激发所述荧光体的激发光；二向色镜，反射来自所述激发光源的激发光，并透射来自所述荧光体的荧光；聚光透镜组，配置在所述二向色镜与所述荧光体之间；以及透镜阵列，配置在所述激发光源与所述二向色镜之间，并且使来自所述激发光源的激发光在所述旋转体的表面上在通过所述旋转体的旋转轴的直径方向上扩展，且在所述旋转体的表面上在所述旋转体的圆周方向上聚光。 | ||
| 搜索关键词： | 旋转体 荧光体 激发光源 二向色镜 光源装置 激发光 发光器件 投影显示装置 聚光透镜组 二维排列 发光输出 过度升温 透镜阵列 准直透镜 色纯度 旋转轴 透射 荧光 功耗 聚光 配置 反射 输出 激发 | ||
【主权项】：
1.一种光源装置，其特征在于，具有：/n荧光体，设置于旋转体的表面；/n激发光源，具有二维排列的多个发光器件和与各发光器件对应设置的准直透镜，并输出用于激发所述荧光体的激发光；/n二向色镜，反射来自所述激发光源的激发光，并透射来自所述荧光体的荧光；/n聚光透镜组，配置在所述二向色镜与所述荧光体之间；以及/n透镜阵列，配置在所述激发光源与所述二向色镜之间，并且使来自所述激发光源的激发光在所述旋转体的表面上在通过所述旋转体的旋转轴的直径方向上扩展，且在所述旋转体的表面上在所述旋转体的圆周方向上聚光。/n
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