[发明专利]一种布料阵列图案偏移扎染装置在审
| 申请号： | 201911105119.4 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN110804819A | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 陈美红 |
| 主分类号： | D06B11/00 | 分类号： | D06B11/00;D06B23/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250000 山东省济南市历城区唐*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开一种布料阵列图案偏移扎染装置，包括底座，其特征在于：所述底座固定连接一组均匀分布的圆杆二的一端，每个所述圆杆二的另一端分别固定连接圆盘二的下侧，所述圆盘二固定连接一组均匀分布的竖板二，所述圆盘二固定连接一组均匀分布的竖板一，所述底座固定连接扎染机构。本发明涉及印染设备领域，具体地讲，涉及一种布料阵列图案偏移扎染装置。本发明方便布料阵列图案偏移扎染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 布料 阵列 图案 偏移 扎染 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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