[发明专利]一种真空灭弧室纵磁触头结构在审
| 申请号： | 201911108578.8 | 申请日： | 2019-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN110828230A | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 张毅;陈志会;欧阳广龙;顾斌 | 申请（专利权）人： | 中国振华电子集团宇光电工有限公司（国营第七七一厂） |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 | 代理人： | 韩炜 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空灭弧室纵磁触头结构。包括触头杯（1），触头杯（1）开口端连接有触头片（2）；触头杯（1）杯壁上沿周向分布有斜槽（3），斜槽（3）贯通开口端在开口端端面上形成槽口（4），槽口（4）与触头杯（1）的内杯壁（5）相切，触头杯（1）杯壁上相邻两斜槽（3）间切割得到的部分构成线圈（8）；所述的触头片（2）边缘沿周向分布有纵磁槽（6），纵磁槽（6）能够与所述槽口（4）轴向对齐，纵磁槽（6）一端贯通触头片（2）边缘。本发明能够在保持短路电流开断能力不变的情况下，实现低电阻目的，同时有利于小型化设计。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室纵磁触头 结构 | ||
【主权项】：
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