[发明专利]用等离子体加工系统进行加工的方法及等离子体加工系统有效
申请号: | 201911109807.8 | 申请日: | 2019-11-14 |
公开(公告)号: | CN110600357B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 王建龙 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 沈锦华 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种应用等离子体加工系统进行加工的方法,所述等离子体加工系统包括第一腔室和第二腔室,所述第一腔室具有第一下电极,所述第二腔室具有第二下电极,射频源通过匹配电路和功率分配器分别在所述第一下电极和所述第二下电极产生第一偏置电压及第二偏置电压,包括:在所述第一腔室和所述第二腔室分别对第一工作件和第二工作件同时进行加工时,通过第一检测装置检测所述第一腔室内的等离子体的第一等离子体特征及第二检测装置检测所述第二腔室内的等离子体的第二等离子体特征;根据所述第一等离子体特征和所述第二等离子体特征调节所述第一偏置电压和/或所述第二偏置电压,使所述第一等离子体特征与所述第二等离子体特征的相对偏差值小于预设值。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 加工 系统 进行 方法 | ||
【主权项】:
1.一种应用等离子体加工系统进行加工的方法,所述等离子体系统包括第一腔室和第二腔室,所述第一腔室内设置第一下电极,所述第二腔室内设置第二下电极,射频源通过匹配电路和功率分配器分别向所述第一下电极和所述第二下电极供电,使所述第一下电极产生第一偏置电压及所述第二下电极产生第二偏置电压,其特征在于,所述方法包括:/n在所述第一腔室对第一工作件进行加工且所述第二腔室对第二工作件同时进行加工时,通过第一检测装置检测所述第一腔室内的等离子体的第一等离子体特征,通过第二检测装置检测所述第二腔室内的等离子体的第二等离子体特征;/n根据所述第一等离子体特征和所述第二等离子体特征调节所述第一偏置电压和/或所述第二偏置电压,以使所述第一等离子体特征与所述第二等离子体特征的相对偏差值小于预设值。/n
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