[发明专利]一种紫外纳秒激光直写微流控芯片制备系统与方法有效
| 申请号： | 201911110237.4 | 申请日： | 2019-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN110744206B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 温维佳;娄凯 | 申请（专利权）人： | 广州市凯佳光学科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/364 | 分类号： | B23K26/364;B23K26/382;B23K26/70;B01L3/00 |
| 代理公司： | 深圳市洪荒之力专利代理有限公司 44541 | 代理人： | 廉莹 |
| 地址： | 511458 广东省广州市南沙区环市大*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种紫外纳秒激光直写微流控芯片制备系统与方法，所述微流控芯片制备系统包括：紫外纳秒激光器、电控光阑、激光扩束器、光束转换器、光束旋转器、透镜、二向色镜、激光切割头、三维移动平台以及控制装置，本发明采用二元相位板和锥透镜组成的光束转换器，可有效生成光滑高质量一类零阶和长高瑞利长度的贝塞尔激光，有效擦除零阶贝塞尔光束中心零级光外的一级光圈，从而有效提升贝塞尔光束的加工质量。本发明可实现高纵深比的激光直写微流控芯片加工，提高激光加工效率并且系统结构简单，便于操作，可用于各种方案的微流控芯片的高效率、高质量加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 激光 直写微流控 芯片 制备 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种紫外纳秒激光直写微流控芯片制备系统，其特征在于：包括：紫外纳秒激光器(1)、电控光阑(2)、激光扩束器(3)、光束转换器(4)、光束旋转器(5)、透镜(6)、二向色镜(7)、激光切割头(8)、三维移动平台(9)以及控制装置(13)，其中，所述紫外纳秒激光器(1)输出的激光束为高斯光束，该高斯光束经过所述激光扩束器(3)扩束后进入所述光束转换器(4)，所述光束转换器(4)将入射的高斯光束转化为贝塞尔光束，之后所述贝塞尔光束进入所述光束旋转器(5)，所述光束旋转器(5)将快速旋转的贝塞尔光束生成环形光束，所述环形光束通过所述透镜(6)和所述二向色镜(7)进入所述激光切割头(8)，所述激光切割头(8)安装在所述三维移动平台(9)上，所述激光切割头(8)将所述环形光束传送至三维移动平台(9)承载的样品上，所述紫外纳秒激光器(1)、所述光束旋转器(5)、所述三维移动平台(9)分别与所述控制装置(13)通信连接；所述光束旋转器(5)可连续旋转并沿光路方向前后移动，所述光束转换器(4)由同心安装的二元相位板(41)与锥透镜(42)胶合组成。/n
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