[发明专利]一种孔径控制选择性去除邻苯二甲酸酯类污染物的光电催化材料和处理方法在审
| 申请号： | 201911111774.0 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN110947373A | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 赵国华;张京;汤波 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | B01J21/08 | 分类号： | B01J21/08;C02F1/30;C02F1/461;C02F1/72;C02F101/34 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 卢泓宇 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种孔径控制选择性去除邻苯二甲酸酯类污染物的材料和处理方法。该光电催化氧化阳极材料采用以下方法制备而成：先制备一维有序的二氧化钛纳米阵列，再在其表面以蒸发诱导‑溶胶凝胶法修饰孔径可控的二氧化硅，选择不同碳链的烷基三甲基氯化铵作为致孔剂进行孔径控制，改变电极在前躯体溶液中的浸渍时间以调节二氧化硅的包覆厚度，得到了尺寸、孔道均可控的具有分子筛功能的光电催化剂。将负载孔径可控二氧化硅的二氧化钛电极作为工作阳极，用于复杂污染体系中邻苯二甲酸酯类的选择性光电催化氧化去除。与现有技术相比，本发明的电极具有优异的光电催化活性和尺寸筛分功能，可实现对复杂体系中目标污染物的选择性高效光电催化氧化去除。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 孔径 控制 选择性 去除 邻苯二 甲酸 污染物 光电 催化 材料 处理 方法 | ||
【主权项】：
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