[发明专利]局部匀场装置及补偿主磁场的不均匀性的方法在审
| 申请号： | 201911112009.0 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN112798994A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 王英伦;陈艳丽;岳振华;赵武贻 | 申请（专利权）人： | 西门子（深圳）磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/34 | 分类号： | G01R33/34;G01R33/387 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及局部匀场装置及补偿主磁场的不均匀性的方法，其中该局部匀场装置包括：一局部线圈，被布置为覆盖一检查对象的一局部区域，以接收来自局部区域的磁共振信号；多个匀场线圈，其中多个匀场线圈被集成在局部线圈中或者被布置为包围局部线圈的至少一部分；以及一匀场控制器，被配置为根据在局部区域内的主磁场的强度分布，控制多个匀场线圈中的至少一个匀场线圈，以提供用于补偿在局部区域内的主磁场的分量的场分布。 | ||
| 搜索关键词： | 局部 装置 补偿 磁场 不均匀 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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