[发明专利]用于光泵磁力仪的射频薄膜有效
| 申请号： | 201911112872.6 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN110764032B | 公开（公告）日： | 2021-08-20 |
| 发明（设计）人： | 徐昆;任秀艳;曾自强;吴灵美;毋丹 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G01R33/00 | 分类号： | G01R33/00;G01R33/032;G01R33/34;G01R33/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 102413 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于光泵磁力仪的射频薄膜，包括：电磁层，所述电磁层包括柔性绝缘基底，其中：在所述基底的一个表面刻蚀金属材料，在所述基底的另一个表面涂布粘合剂，所述金属材料刻蚀末端焊接引出线，相邻的刻蚀形成的金属材料线中的电流流动方向相同。本发明射频薄膜应用于原子气室的外表面，大大减小了射频线圈的占用空间，薄膜的尺寸灵活可调，便于安装和拆卸；其用于磁力仪中，有利于磁力仪探头的小型化；且基于刻蚀线路的可控化，能够满足对磁场分布的不同需求。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁力 射频 薄膜 | ||
【主权项】：
1.一种射频薄膜，包括：/n电磁层，所述电磁层包括柔性绝缘基底，其中：/n在所述基底的一个表面刻蚀金属材料，在所述基底的另一个表面涂布粘合剂，/n所述金属材料刻蚀末端焊接引出线，/n相邻的刻蚀形成的金属材料线中的电流流动方向相同。/n
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