[发明专利]金属氧化物薄膜的制备方法在审
申请号: | 201911114758.7 | 申请日: | 2019-11-14 |
公开(公告)号: | CN111088484A | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 彭钊 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种金属氧化物薄膜的制备方法,所述方法包括:提供一金属氧化物的一前驱盐类;将所述前驱盐类与一促进剂、一溶剂混合均匀得到一前驱盐类溶液;将所述前驱盐类溶液涂布于一基板,并去除多余的所述前驱盐类溶液形成一前驱物膜层;以及以一烘烤温度对所述基板上的所述前驱物膜层进行一烘烤程序,所述烘烤温度为不超过200℃,以形成所述前驱盐类对应的所述金属氧化物薄膜。还提供一种以所述的方法制备而得的金属氧化物薄膜。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化物 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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