[发明专利]三维微纳结构光刻系统及其方法有效
| 申请号： | 201911115238.8 | 申请日： | 2019-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN112799286B | 公开（公告）日： | 2022-04-22 |
| 发明（设计）人： | 邵仁锦;浦东林;朱鹏飞;张瑾;朱鸣;徐顺达;吕帅;陈林森 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人： | 周景 |
| 地址： | 215123 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种三维微纳结构光刻系统，包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和旋转工作台，数字掩模装置与空间光调制器电性连接，投影物镜设置于空间光调制器与旋转工作台之间，旋转工作台用于固定待光刻的基片；数字掩模装置用以生成数字掩模，数字掩模包括图形曝光区，数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器，空间光调制器用以显示数字掩模，空间光调制器发出的光经过图形曝光区后射向投影物镜，图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比；投影物镜将图形光投影在基片上，旋转工作台驱使基片转动曝光。本发明的三维微纳结构光刻系统，结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。 | ||
| 搜索关键词： | 三维 结构 光刻 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
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