[发明专利]一种基于气液两相回流控温的大面源黑体辐射源

摘要

本发明公开了一种基于气液两相回流控温的面源黑体辐射源，所述面源黑体辐射源包括大面源黑体、支撑底板、气液两相回流装置以及支撑架构，所述大面源黑体、支撑底板和气液两相回流装置均通过支撑架构支撑，所述大面源黑体通过支撑底板支撑，所述气液两相回流装置位于支撑底板之下。本发明所述的基于气液两相回流控温的面源黑体辐射源，具有高发射率，大面源等特点，通过气液两相回流控温使大面源黑体辐射源不受野外环境限制实现一定温度范围内的精准控温，保证了大面源黑体辐射源温度的稳定性和均匀性，能满足高光谱及红外载荷高精度外场辐射定标对于高发射率、高均匀性标准测试目标的要求。

主权项

1.一种基于气液两相回流控温的面源黑体辐射源，其特征在于：所述面源黑体辐射源包括大面源黑体、支撑底板、气液两相回流装置以及支撑架构，所述支撑底板和气液两相回流装置均通过支撑架构支撑，所述大面源黑体通过支撑底板支撑，所述气液两相回流装置位于支撑底板之下；所述大面源黑体包括若干个子黑体组件；所述子黑体组件由上至下依次设有黑体面源板、背板和均温板，所述均温板上设有均衡排列的散热流道，所述均温板两侧设有与散热流道相通的进液散流道和出液集流道，所述进液散流道中间设有进液口，出液集流道中间设有出液口；所述气液两相回流装置包括流体管路以及通过流体管路依次衔接的换热器、制冷机组、储液器、过滤器、循环泵、回热器和预热器；所述大面源黑体的每个子黑体组件均温板的进液口均通过进液流体软管衔接至流体管路的一端，出液口均通过出液流体软管衔接至流体管路的另一端；/n工质沿流体管路经换热器、制冷机组、储液器、过滤器、循环泵、回热器、预热器，平均分散过进液流体软管至各个子黑体组件的均温板进液口，经进液散流道分散至散热流道，再经出液集流道至均温板出液口，过出液流体软管集中再沿流体管路回流过回热器后，再循环至换热器、制冷机组，形成循环回路，实现对大面源黑体辐射源的控温。/n