[发明专利]一种光刻机系统及光刻方法在审
| 申请号： | 201911117978.5 | 申请日： | 2019-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN110794652A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 赵宇航;李铭;袁伟 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 吴世华;张磊 |
| 地址： | 201210 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机系统及光刻方法，光刻机系统包括一中央光源模块，多个光刻机主机，光源传输模块及光源控制模块，中央光源模块通过光源传输模块连接光源控制模块，光源控制模块通过光源传输模块分别连接各光刻机主机，光源控制模块从中央光源模块所提供的光源中分离出目标光刻机主机所需波段的光源，并传输至目标光刻机主机，向各目标光刻机主机同时提供光刻工艺所需的曝光能量。本发明通过将一台中央光源模块所产生的光源通过光源传输模块和光源控制模块，同时传输给两台或多台光刻机主机，从而可提供每台光刻机主机光刻工艺所需的曝光能量，显著提高光刻机光源使用效率，降低光刻机系统导入成本和维护成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻机 主机 光源控制模块 光源传输 中央光源 光源 光刻工艺 曝光能量 刻机 光源使用效率 模块连接 传输 波段 光刻 维护 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机系统，其特征在于，包括：一中央光源模块，多个光刻机主机，光源传输模块，以及光源控制模块；其中，所述中央光源模块通过所述光源传输模块连接所述光源控制模块，所述光源控制模块通过所述光源传输模块分别连接各所述光刻机主机，所述光源控制模块从所述中央光源模块所提供的光源中分离出目标所述光刻机主机所需波段的光源，所述光源控制模块将光束从单束分离为多束，并分别传输至目标所述光刻机主机，向各目标所述光刻机主机同时提供光刻工艺所需的曝光能量。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海集成电路研发中心有限公司，未经上海集成电路研发中心有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911117978.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：图案描绘装置
- 下一篇：一种基于数字电路控制的激光镜头焦距自动找正系统及方法
