[发明专利]基板支撑组件以及用于处理基板的设备在审
| 申请号： | 201911120497.X | 申请日： | 2015-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN110690098A | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | A·恩古耶;Y·萨罗德维舍瓦纳斯;T·K·赵 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 杨学春;侯颖媖 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本文描述基板支撑组件以及用于处理基板的设备。本公开一般涉及用于处理腔室中的电场、气流及热分布中的对称性以实现处理均匀性的设备及方法。本公开的实施例包括等离子体处理腔室，该等离子体处理腔室具有沿着同一中心轴对准的等离子体源、基板支撑组件和真空泵，以在等离子体处理腔室中创建基本上对称的流动路径、电场及热分布，从而导致改善的处理均匀性和减少的偏斜。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体处理腔室 基板支撑组件 处理均匀性 电场 热分布 等离子体源 处理基板 处理腔室 流动路径 同一中心 真空泵 轴对准 偏斜 对称 创建 | ||
【主权项】：
1.一种基板支撑组件，包括：/n静电夹盘，所述静电夹盘具有用于支撑基板的顶表面；以及/n支撑块，所述支撑块包括：/n盘，所述盘用于支撑所述静电夹盘；以及/n安装块，所述安装块附接至所述盘，用于以悬臂方式将所述盘和所述静电夹盘安装至侧壁。/n
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