[发明专利]一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统在审
| 申请号： | 201911124049.7 | 申请日： | 2019-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN110806412A | 公开（公告）日： | 2020-02-18 |
| 发明（设计）人： | 张健;樊非;李亚国;张清华;王健;许乔 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/47 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 胡蓉 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请实施例提供一种基于光学元件的缺陷尺寸检测方法及系统，涉及光学测量技术领域，该方法包括：获取所述光学元件中缺陷图像占用的缺陷像元数；判断所述缺陷像元数是否等于或小于预设的分辨率像元数；当所述缺陷像元数等于或小于预设的分辨率像元数时，获取缺陷散射光光强；以预设的尺寸检测算法和所述缺陷散射光光强为依据进行计算，得到缺陷尺寸。可见，实施这种实施方式，能够测量出传统方法中无法检测到缺陷尺寸，提高缺陷检测效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 光学 元件 缺陷 尺寸 检测 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911124049.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
