[发明专利]一种基于圆柱面基准约束与余量约束的配准方法有效
| 申请号： | 201911132905.3 | 申请日： | 2019-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN110850808B | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 朱燏;肖世宏;王文理 | 申请（专利权）人： | 中国航空制造技术研究院 |
| 主分类号： | G05B19/401 | 分类号： | G05B19/401 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100024 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于圆柱面基准约束与余量约束的配准方法，包括以下步骤：S1：根据圆柱面选择理论圆柱面基准；S2：对零件的待加工面和参考部分别进行检测；S3：通过对圆柱面检测点进行拟合得到拟合圆柱面基准，通过理论圆柱面基准向拟合圆柱面基准运动，得到第一旋转矩阵R |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 圆柱面 基准 约束 余量 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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