[发明专利]限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法在审
申请号: | 201911133249.9 | 申请日: | 2019-11-19 |
公开(公告)号: | CN111200232A | 公开(公告)日: | 2020-05-26 |
发明(设计)人: | K·D·鲁博 | 申请(专利权)人: | 维蒂克影像国际无限责任公司 |
主分类号: | H01S3/10 | 分类号: | H01S3/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 刘玉洁 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本申请涉及限制任意激光模板投影的激光曝光的系统和方法。用于将提供最佳激光能量的激光图像投影到工作表面上的激光投影系统包括激光源和用于调制输出功率水平的电子电路。检流计组件包括扫描镜,该扫描镜由镜控制电路操作,以沿着扫描路径将激光束重定向到工作表面上以生成激光图像。检流计组件电连接到电子电路,用于向电子电路发信号通知扫描镜的角速度。控制器包括扫描路径输入模块,用于生成沿着扫描路径的扫描镜的角速度的模拟,以估计沿着激光束的扫描路径的区域的激光能量的集中度。电子电路响应于估计的激光能量集中度和扫描镜的角速度来调制激光束的能量集中度。 | ||
搜索关键词: | 限制 任意 激光 模板 投影 曝光 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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