[发明专利]一种用于制氢的多孔Ni管支撑的Ni-Zr1-x有效

专利信息
申请号: 201911135987.7 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN112892228B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 杨维慎;王静忆;朱雪峰 申请(专利权)人: 中国科学院大连化学物理研究所
主分类号: B01D69/12 分类号: B01D69/12;B01D69/02;B01D69/04;B01D71/02;B01D67/00;C01B3/04;C01B3/40
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司 21212 代理人: 毛薇;李馨
地址: 116000 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种用于制氢的多孔Ni管支撑的Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2膜及其制备方法。多孔Ni管支撑的Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)膜用于制备高纯氢,等静压成型的Ni管于600‑1000℃下5%H2‑Ar混合气中预烧得到的多孔Ni管,在多孔Ni管上涂层Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)过渡层,所述的Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)过渡层的质量比可在以下范围内变化:40/60–70/30,在过渡层上涂层Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)致密层,所述的Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)致密层的质量比可在以下范围内变化:30/70‑50/50。最终得到的多孔Ni管上涂层Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)过渡层及致密层的膜管,Ni‑Zr1‑xMxO2‑x/2(M=Y或Sc)致密层的厚度在20‑100μm之间变化。制备的管状膜具有可观的氢分离速率,优异的稳定性。
搜索关键词: 一种 用于 多孔 ni 支撑 zr base sub
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院大连化学物理研究所,未经中国科学院大连化学物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911135987.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top