[发明专利]一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器有效
申请号: | 201911139545.X | 申请日: | 2019-11-19 |
公开(公告)号: | CN110911507B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 夏金松;宋金汶;袁帅 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/0232 | 分类号: | H01L31/0232;H01L31/0236;H01L31/105;B82Y40/00 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器,属于半导体探测器领域。包括:衬底,其材料为SOI;位于衬底上的有源层,其材料为锗和硅,上表面有介质超表面微结构,所述介质超表面微结构为亚波长周期性结构。本发明在硅基锗探测器有源层上加工介质超表面微纳结构,利用介质超表面引入的米氏谐振,将入射光限制在硅基锗探测器的有源吸收区,增强探测器对入射光的吸收效率,在不牺牲硅基锗光电探测器的高速性能下,提升了探测器的响应度。通过对介质超表面微纳的结构进行优化设计,调控各个谐振单元本身及及谐振单元之间的排布,能够有效地控制谐振增强吸收峰的光波长位置,从而在特定波长或特定波段提升光电探测器的响应度。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 介质 表面 垂直 入射 型硅基锗 光电 探测器 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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