[发明专利]一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器有效

专利信息
申请号: 201911139545.X 申请日: 2019-11-19
公开(公告)号: CN110911507B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 夏金松;宋金汶;袁帅 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/0232 分类号: H01L31/0232;H01L31/0236;H01L31/105;B82Y40/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种基于介质超表面的垂直入射型硅基锗光电探测器,属于半导体探测器领域。包括:衬底,其材料为SOI;位于衬底上的有源层,其材料为锗和硅,上表面有介质超表面微结构,所述介质超表面微结构为亚波长周期性结构。本发明在硅基锗探测器有源层上加工介质超表面微纳结构,利用介质超表面引入的米氏谐振,将入射光限制在硅基锗探测器的有源吸收区,增强探测器对入射光的吸收效率,在不牺牲硅基锗光电探测器的高速性能下,提升了探测器的响应度。通过对介质超表面微纳的结构进行优化设计,调控各个谐振单元本身及及谐振单元之间的排布,能够有效地控制谐振增强吸收峰的光波长位置,从而在特定波长或特定波段提升光电探测器的响应度。
搜索关键词: 一种 基于 介质 表面 垂直 入射 型硅基锗 光电 探测器
【主权项】:
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