[发明专利]一种用于研究光合作用气体交换的同位素质谱进样系统有效

专利信息
申请号: 201911139936.1 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN110726793B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 张利;樊大勇;付增娟;张淑敏 申请(专利权)人: 中国科学院植物研究所
主分类号: G01N30/06 分类号: G01N30/06;G01N30/24;G01N30/72
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 谢斌
地址: 100093 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种用于研究光合作用气体交换的同位素质谱进样系统,包括光合叶室模拟装置、冷阱和同位素质谱仪,光合叶室模拟装置包括温控底座、光通道、气体通道、光合模拟器和半透膜。本发明公开的用于研究光合作用气体交换的同位素质谱进样系统通过模拟绿色植物光合作用设计了实验室环境下的光合叶室模拟装置,人工可控地将O2、CO2、H2O和光输送给绿色叶片,并使用半透膜选择性通过O2、CO2组成的混合气体,再利用冷阱纯化,最后采用同位素质谱仪检测,可实现在线自动连续监测光合作用气体进出过程中碳、氧同位素变化轨迹,研究自然状态下碳同化动态过程。
搜索关键词: 一种 用于 研究 光合作用 气体 交换 同位 素质 谱进样 系统
【主权项】:
1.一种用于研究光合作用气体交换的同位素质谱进样系统,其特征在于,包括从前至后依次用管道连接的光合叶室模拟装置(1)、冷阱(2)和同位素质谱仪(3),/n所述光合叶室模拟装置(1)包括温控底座(10)、光通道(11)、气体通道(12)、光合模拟器(13)和半透膜(14);/n所述温控底座(10)上设置有凹槽,所述光合模拟器(13)设置于所述温控底座(10)的凹槽内;/n所述半透膜(14)设置在所述光合模拟器(13)的底面与所述温控底座(10)的凹槽的表面之间;/n所述光合模拟器(13)内设置有叶室(130),所述气体通道(12)包括进气口(121)、气压调节口(122)和出气通道(123),所述进气口(121)、所述气压调节口(122)、所述光通道(11)和所述出气通道(123)均与所述叶室(130)相连通,所述出气通道(123)穿过所述温控底座(10)。/n
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