[发明专利]离子束照射装置和存储离子束照射装置用程序的存储介质在审
| 申请号： | 201911140104.1 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN111739777A | 公开（公告）日： | 2020-10-02 |
| 发明（设计）人： | 竹村真哉 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李雪春;王维玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供离子束照射装置和存储有离子束照射装置用程序的存储介质。能够自动确定基本运转参数的适当的初始值。离子束照射装置(100)由多个模块(M)生成满足处理条件的离子束并向被处理物(W)照射，该离子束照射装置(100)包括：机器学习部(92)，生成将新的处理时的处理条件和监测值至少作为说明变量的学习算法，该监测值表示该新的处理的上一次处理中的至少一个模块(M)的状态；以及基本运转参数输出部(94)，使用学习算法输出控制模块(M)的动作的基本运转参数的初始值。 | ||
| 搜索关键词： | 离子束 照射 装置 存储 程序 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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