[发明专利]一种去除镁或镁合金熔体中氧化镁夹杂的方法有效
申请号: | 201911142460.7 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN110724843B | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 游国强;龙思远;周凯旋;姚繁锦;彭力真 | 申请(专利权)人: | 重庆大学;重庆硕龙科技有限公司 |
主分类号: | C22C1/06 | 分类号: | C22C1/06;C22C23/00;C22B9/10;C22B26/22 |
代理公司: | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人: | 张先芸 |
地址: | 400044 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明公开了一种去除镁或镁合金熔体中氧化镁夹杂的方法,属于金属熔体净化技术领域。所述方法为在镁或镁合金熔炼过程中,向镁或镁合金熔体中加入能够与氧化镁发生还原反应的金属元素,使所加入的金属元素与氧化镁夹杂发生还原反应,生成密度比镁或镁合金密度大的金属氧化物和镁;再通过静置使新生成的金属氧化物沉降到炉底,达到净化镁或镁合金熔体的目的。本发明能够有效去除镁或镁合金熔体中的氧化镁夹杂的含量,特别是针对现有技术中无法除去的小尺寸氧化镁(尺寸小于0.5mm),去除镁合金夹杂的效果好,提升了镁或镁合金的品质。 | ||
搜索关键词: | 一种 去除 镁合金 熔体中 氧化镁 夹杂 方法 | ||
【主权项】:
1.一种去除镁或镁合金熔体中氧化镁夹杂的方法,其特征在于,在镁或镁合金熔炼过程中,向镁或镁合金熔体中加入能够与氧化镁发生还原反应的金属元素,使所加入的金属元素与氧化镁夹杂发生还原反应,生成密度比镁或镁合金密度大的金属氧化物和镁;再通过静置使新生成的金属氧化物沉降到炉底,达到净化镁或镁合金熔体的目的。/n
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