[发明专利]能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法在审
| 申请号： | 201911145261.1 | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN110842742A | 公开（公告）日： | 2020-02-28 |
| 发明（设计）人： | 廖楚平 | 申请（专利权）人： | 苏州亮宇模具科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B47/12;B24B41/06 |
| 代理公司： | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32295 | 代理人： | 叶栋 |
| 地址： | 215127 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。所述研磨抛光方法步骤简单、操作方便。分发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法使得待抛光件抛光更加方便快捷，提高了工作效率及生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 能够 形成 高效 平面 研磨 抛光 设备 方法 | ||
【主权项】：
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