[发明专利]硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外复合减反射薄膜有效

专利信息
申请号: 201911146650.6 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN111090134B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 冷健;刘华松;季一勤;庄克文;刘丹丹 申请(专利权)人: 天津津航技术物理研究所
主分类号: G02B1/115 分类号: G02B1/115
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 王雪芬
地址: 300308 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种硫系玻璃基底激光、中波红外、长波红外三谱段复合减反射薄膜及其制备方法,属于真空镀膜技术领域。本发明通过膜系设计、过渡层筛选及工艺优化等手段在硫系玻璃基底上实现1.064μm、3.7μm‑4.8μm及8μm‑12μm三谱段复合减反射薄膜制备。本发明两侧膜系为对称结构,两面的膜系结构基本形式均为:Sub/αH(βiiL)m/Air,其中H、M、L分别代表高折射率膜层、中折射率膜层和低折射率膜层,两侧膜层应力一致,有助于提高镀膜基片的面形质量及机械性能。
搜索关键词: 玻璃 基底 激光 中波 红外 长波 复合 反射 薄膜
【主权项】:
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