[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201911147194.7 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN111223856A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 高桥彻雄 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 何立波;张天舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 使半导体装置的关断损耗降低。半导体装置(1)具备半导体衬底(7)和第二电极(26)。半导体衬底(7)包含元件区域(100)和外周区域(103)。n漂移区域(10)及第二电极(26)从元件区域(100)延伸至外周区域(103)。n缓冲层(20)及p集电极层(22)也设置于外周区域(103)。在外周区域(103)设置有n型区域(40)。n型区域(40)与第二电极(26)、n缓冲层(20)接触。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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