[发明专利]一种靶材成膜装置在审
| 申请号： | 201911148731.X | 申请日： | 2019-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN110747441A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 李喜峰;杨世博;袁雁妤;于正航 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 11569 北京高沃律师事务所 | 代理人： | 张天一 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种靶材成膜装置，涉及靶材成膜技术领域，包括对称设置的基板和靶材，所述靶材远离所述基板的一侧设置有磁体，所述磁体上穿设有旋转轴；所述旋转轴与所述基板的运动方向垂直，且所述旋转轴能够带动所述磁体两端靠近或远离所述基板摆动；所述基板靠近所述靶材的一侧均匀开设有凹槽；所述靶材和所述基板之间设置有电场。本发明提供的靶材成膜装置，使基板凹槽处成膜连续，比旋转式靶材成本低，对生产线改动小。 | ||
| 搜索关键词： | 靶材 基板 旋转轴 成膜装置 运动方向垂直 成膜技术 对称设置 基板凹槽 均匀开设 电场 旋转式 摆动 成膜 | ||
【主权项】：
1.一种靶材成膜装置，其特征在于：包括对称设置的基板和靶材，所述靶材远离所述基板的一侧设置有磁体，所述磁体上穿设有旋转轴；所述旋转轴与所述基板的运动方向垂直，且所述旋转轴能够带动所述磁体两端靠近或远离所述基板摆动；所述基板靠近所述靶材的一侧均匀开设有凹槽；所述靶材和所述基板之间设置有电场。/n
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