[发明专利]具有阶梯式渐变折射率分离限制异质结构的激光设备在审
| 申请号： | 201911154493.3 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN111384667A | 公开（公告）日： | 2020-07-07 |
| 发明（设计）人： | J·K·多因轮德;P·杜西耶 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | H01S5/34 | 分类号： | H01S5/34;H01S5/343 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据一些实施例，本公开内容的实施例涉及具有阶梯式渐变折射率分离限制异质结构(SCH)的激光设备。一个实施例包括衬底区域以及与该衬底区域相邻的有源区域。有源区域包括SCH层，其包括第一部分和与第一部分相邻的第二部分。使第一部分的成分渐变，以在从多量子阱(MQW)到激光设备结的p侧的距离上提供第一导带能量增加。使第二部分的成分渐变以在从MQW到p侧的距离上提供第二导带能量增加。第一导带能量增加不同于第二导带能量增加。描述和/或要求保护了其他实施例。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 阶梯 渐变 折射率 分离 限制 结构 激光设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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