[发明专利]错层式金属位线走线的磁性随机存储器存储阵列在审

专利信息
申请号: 201911156106.X 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN112837723A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 戴瑾;吕玉鑫 申请(专利权)人: 上海磁宇信息科技有限公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16;G11C5/06;H01L27/22
代理公司: 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 代理人: 于晓菁
地址: 201815 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种错层式金属位线(BL)走线的磁性随机存储器(MRAM)存储阵列,磁性随机存储器阵列内的每列磁性隧道结(MTJ)的一端连接同一根位线,其特征在于,任意相邻两根位线(BL)的金属层走线分别错层,任意相邻两根位线(BL)的金属层走线由不同金属层所形成。利用相邻位线(BL)间的错层金属层化设计来减小相邻位线(BL)间的寄生耦合电容,从而降低了正在读、写操作的位线对相邻位线产生影响,保证了内部存储单元保存数据的准确性。
搜索关键词: 错层式 金属 位线走线 磁性 随机 存储器 存储 阵列
【主权项】:
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