[发明专利]掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法有效
| 申请号： | 201911162936.3 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN110750038B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 严峰;王晓龙 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 掩膜版和标准片及对准图形误差补偿方法。本发明公开了一种光刻系统对准图形误差补偿方法，包括利用设计制造掩模版制造两片标准片，将两片标准片分别使用同一组晶圆对准图形的第一掩膜版对准图形和第二掩膜版对准图形沿光刻系统Y方向整体偏移第二预设距离后曝光显影；分别测量第一标准片和第二标准片某个重复区域嵌套的第一嵌套图形和第二嵌套图形之间相对偏移误差，获得第一误差和第二误差；将第一误差和第二误差的差值作为掩膜版对准图形的机台补正参数。本发明具有通用性、准确性和便利性，很低的成本下能快速准确的获得光刻系统对准误差误补偿量。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 标准 对准 图形 误差 补偿 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，其用于光刻系统对准误差测量，其特征在于：/n该掩膜版上形成有多块的重复区域，所述重复区域彼此之间在光刻系统Y方向上间隔第一预设距离，每块重复区域内沿光刻系统Y方向顺序形成第一嵌套图形、掩膜版对准图形、晶圆对准图形和第二嵌套图形。/n
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