[发明专利]应用于荧光成像系统的区域光源匀光结构及荧光成像系统在审
申请号: | 201911165107.0 | 申请日: | 2019-11-25 |
公开(公告)号: | CN111022967A | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 王强斌;马翔 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | F21S8/00 | 分类号: | F21S8/00;F21V5/04;F21V9/00;F21Y115/10 |
代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王锋 |
地址: | 215123 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种应用于荧光成像系统的区域光源匀光结构及荧光成像系统。所述区域光源匀光结构包括:激发光收束准直单元,其至少用于将激发光源发出的激发光转为平行光供下一步处理;消干涉单元,其包括可以旋转的偏心球,所述偏心球至少用于对收束准直后的激发光进行聚焦和消干涉;匀光单元,其至少用于对经偏心球聚焦的激发光进行匀化。进一步的,所述匀光结构还可以包括投射单元,其至少用于将经匀化的光投射到待激发的荧光物质上。本发明提供的区域光源匀光结构可以将高斯分布的入射光束整形为平顶分布的光束,消除了激发光的干涉散斑,且可以很好的满足体积小、照明面积大、照明强度高的要求。 | ||
搜索关键词: | 应用于 荧光 成像 系统 区域 光源 结构 | ||
【主权项】:
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