[发明专利]一种中波红外增透膜设计及制备方法在审
| 申请号： | 201911165985.2 | 申请日： | 2019-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN110794490A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 郭猛;贺洪波;易葵;邵淑英;朱美萍 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/30 |
| 代理公司： | 31317 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种中波红外增透膜设计及制备方法，包括步骤：膜系设计，基片清洗，基片加热，膜系镀制。基片材料为折射率为1～5的红外窗口玻璃，高折射率镀膜材料的折射率为1.5～3，低折射率镀膜材料的折射率为1～1.5，使用离子辅助沉积及合适的烘烤温度等特定的工艺条件，采用双面镀膜方式可实现5mm厚的FGa玻璃在3.7um～5um中红外波段具有良好的透过效果，平均透过率>92％。该发明可提高中红外窗口的光学效率，在红外探测方便具有明显优势。 | ||
| 搜索关键词： | 折射率 镀膜材料 红外窗口 膜系 离子辅助沉积 红外增透膜 中红外波段 玻璃 低折射率 高折射率 工艺条件 光学效率 红外探测 基片材料 基片清洗 双面镀膜 透过率 烘烤 镀制 制备 加热 | ||
【主权项】：
1.一种中波红外增透膜设计及制备方法，其特征在于，包括如下步骤：/n(1)膜系设计：/n两面膜系结构均为Sub/(a
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911165985.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：低折射层和包括该低折射层的电子装置
- 下一篇：十米直径的线性菲涅尔透镜系统
